Alexander Kuklev (akuklev) wrote,
Alexander Kuklev
akuklev

Categories:

Оптическая фотолитография до упора в наноэлектронику!

Профессор Хелл (Гёттингенская лаборатория нанофотоники) снова отличился. На базе его STED-технологии в MIT смогли разработать методику быстрой фотолитографии с разрешением 1/8 длинны волны без использования multiple patterning. При помощи недорогого апгрейда существующих сейчас фабов это позволить делать 24nm-професс на совершенно стандартном 192nm ультрафиолете вообще без double patterning или 10 nm с multiple patterning, т.е. до упора технологии на базе кристаллического кремния — 10 нм это 20 атомов кремния, при регулярной химически-однородной структуре из меньшего количества атомных слоёв группы транзистор не сделать.
Subscribe

  • (no subject)

    Встретил фотографию толпы футбольных фанатов, и она меня скорее напугала, у меня уж точно нет желания быть там среди них. Но внезапно я понял, что…

  • Прогресс

    Десять дней назад, вторая ступень SpaceX'овского корабля Starship своим ходом слетала своим ходом на десять километров вверх, и усмепшно приземлилась…

  • О водосбережении

    Как известно, питьевая вода во многих странах дефицитный ресурс. И даже в дождливой Германии летом иногда случаются засухи, в результате которых она…

  • Post a new comment

    Error

    default userpic

    Your reply will be screened

    Your IP address will be recorded 

    When you submit the form an invisible reCAPTCHA check will be performed.
    You must follow the Privacy Policy and Google Terms of use.
  • 4 comments